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351纳米高输出-低重复型GIGANEX 600W型激光器
日本
分类:准分子
我们相信,通过整合Gigaphoton从制造准分子激光器作为半导体光刻光源中获得的技术和专有技术,并将该技术和专有技术与其客户的技术相结合,新创建的Giganex也可以在半导体光刻以外的领域产生新的创新,作为高性能DUV光源。由于Giganex系列是在Gigaphoton&Aposs GT平台上设计的,并且是为较大限度的通用性而设计的,因此可以预期它是高度可靠的。此外,它继承了GT系列的高输出和高振荡频率的特点,并有望实现更适合激光退火的设计。
参数
  • Gas Mixture: XeF
  • Wavelength: 351 nm
  • Pulse Energy: 1000mJ
  • Average Power: 600W
  • Max Repetition Rate: 600Hz
  • Pulse Duration: 17ns
应用
  • 预期应用领域:FPD制造工艺、柔性器件制造工艺、半导体制造工艺
关键指标

暂无关键指标