参数
- Gas Mixture: F2*
- Wavelength: 157 nm
- Pulse Energy: 1mJ
- Average Power: 0.2W
- Max Repetition Rate: 300Hz
- Pulse Duration: 8ns
应用
- 微机械加工
- 激光烧蚀
- 医学（屈光手术）
- 光谱学
- 计量学
关键指标
- 软电晕预电离
- 高压固态脉冲发生器
- 激光头体积3L
- TMC（全金属陶瓷）容器
- 集成真空泵卤素过滤器
- 完全风冷，主动式热管理
- 用于系统集成的RS-85、RS232、USB和光纤接口
- 可冲洗光学器件支架
- 能量稳定模式
- 符合欧洲CE标准
- 符合RoHS规范