EUV光刻机面临的较大问题是解决RLS权衡：同时提高分辨率、线宽粗糙度（LWR）和光敏性。AL412旋涂辅助层材料已经显示出降低线边缘粗糙度（LER）和图案塌陷、平坦化形貌、保护下面的层免受高能EUV光子损伤、改善粘附性以及改善图案转移蚀刻选择性。