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准分子激光系统
美国
现在可以从其他几种不同的激光源获得UV光子,但是准分子激光器尽管有缺点,但仍然可以做其他激光器不能做的事情,并且在某些情况下(在近中心上有许多小孔),它们可以是经济的,因为它们使用掩模成像而不是单点钻孔。谐振腔配置产生对于近场成像理想的光束,并且激光束的高峰值功率允许在很少或没有热影响区的情况下烧蚀目标材料。193-351 nm光学波长范围允许在目标表面上生成高分辨率(~1µm)特征,浅吸收深度允许通过控制所施加的脉冲数量来严格控制特征深度。大的光束横截面可容纳用于近场成像的大成像掩模。光加工工程师在准分子激光合同制造和系统设计方面拥有丰富的经验。我们可以将定制配置与简单的成像集成,一直到多轴运动、复杂的光学系统和机器视觉。还可以通过净化光束传输将光学缩小2倍至30倍。准分子生产工具是完全封闭和联锁的,符合所有CDRH I类要求。集成气体柜确保气体管道的污染较小。所有准分子系统都使用光加工控制软件。我们设备齐全的准分子实验室使我们能够在系统设计和建造之前进行原理验证。通常使用工作频率高达200 Hz、平均功率为60 W的光机和相干准分子激光器KrF(248 nm),尽管更高功率的激光器可用于高通量应用。
参数
  • Wavelength: 351nm
  • Working Distance: --mm
  • Spatial Resolution: 1um
  • Processing Area: Not Specified
  • Max Peak Power: 1 - 100kW
  • Max Processing Linear Speed: --mm/sec
应用

暂无应用说明

关键指标

暂无关键指标