稳定性和耐用性是准分子激光器较大的技术挑战，因为它使用氟、高压放电和深紫外线，所有这些都是高活性的。除了稳定性和耐用性外，用于光刻工具的准分子激光光源还需要激光束的高单色性和输出能量的高均匀性。作为世界上先进个满足所有这些要求的准分子激光光源，G10K自1997年上市以来，在光刻光源市场上赢得了极高的声誉。这一模式仍在世界各地的实地运作。