我们专有的光刻工艺使用各种液体和干光刻胶薄膜，在尺寸从非常小到非常大的基板上以极高的分辨率定义图案。我们的添加光刻工艺通过将带正电的金属溅射到带负电的基底上来创建电路线，然后，如果需要，进行电镀以构建具有精确高度和宽度的导电迹线。您可以获得更一致的迹线定义、更薄且因此更灵活的电路（在需要的地方）以及更均匀的电路线（即，顶部和底部宽度相同）。